AccuSizer Mini 在线液体颗粒计数器

How？

如何省钱？

提高良品率！

提高过滤器的利用率，提高过滤器的使用寿命，减少宕机时间。

How？

如何提高良品率？

快速揪出晶圆划痕的元凶⸺尾端大粒子，Large Particle Count(LPC)0.15-20μm。

CMP制程中Slurry的LPC及其容易变化，如外来污染，由于化学环境、CMP传递运输系统，泵的输送，因剪切力的改变而导致的粒子聚集。slurry本身就不稳定。所以控制CMP slurry的尾端大颗粒（LPC）对提高CMP良品率至关重要。

Who should use？

谁应该使用？

研磨液(Slurry)的生产商，CMP SDS系统集成供应商，芯片IDM生产企业或晶圆代工厂

Where to use？

在哪里使用？

POU 端监控过滤效率，过滤前和过滤后。

选择合适的过滤器。

确保CMP工艺前CMP slurry中具有可控的LPC的量。

CMP slurry（研磨液）、复杂纳米制剂、墨水等需要监控大粒子数量（Large Particle Count）的领域

不同于LAB的设计理念，符合在线产品的需求。

全自动化和模块化设计理念，大大减少维护成本和周期。

自动稀释，专为用于高浓度的研磨液（slurry）的颗粒计数而设计。

SPOS单颗粒计数技术，可对150nm的粒子进行量化计数。

512通道的超高分辨率。可以量化极少数LPC。

FX系列专为氧化铈而设计，相对于LE/LS SPOS来说，FX系列有超过200倍的检测浓度。

自动稀释加持下，可对10⁶/ml的浓度进行计数！

SPOS

单颗粒计数技术

150nm

进行量化计数

512

通道的超高分辨率

10⁶/ml

计数浓度

SPOS(LE+LS)

单颗粒光学传感技术原理示意图

AccuSizer Mini LE 系统

 SPOS(Focus Beam+LE)

聚焦光束计数技术原理示意图

 AccuSizer Mini FX 系统

Focused Beam+LS

聚焦光束纳米计数技术原理示意图

AccuSizer Mini FX-Nano 系统

分析方法及原理

SPOS（LE+LS）

SPOS（Focus Beam+LE）

SPOS（Focus Beam+LS）

粒径检测范围

0.5-400μm

0.65-20μm

0.15-200μm

传感器极限浓度

10,000颗/mL

10⁶颗/mL

10⁶颗/mL

样本量

最小10mL

精度

1μm PSL标准粒子粒径平均值±10%

测量时间

CMPslurry（研磨液）

(Silicon)、墨水、纳米乳

CMPslurry

（研磨液）（Cerium）

CMPslurry（研磨液）

（纳米级Silicon）

安装要求

电源

3相电源插座（IEC C14插座）、100至240VAC最大功率5安培

压缩空气或气体

1/4’’push on、3.5至5.6 kg/cm²、50至80 psi

水

1/4’’flare、1.8 to 2.5 kg/cm2、25至35 psi

进样

1/4’’flare、0.2 to 2.1 kg/cm²、3至30 psi

排液

1/4’’flare、零压力排放

尺寸

863.6mm*355.6mm*279.4mm（34’’* 14’’* 11’’）