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  • 2021
    浆料粒径对CMP工艺缺陷水平的影响

    浆料粒径对CMP工艺缺陷水平的影响通过使用两种粒度测量仪器,对较常用的化学机械抛光(CMP)氧化物浆料(CabotSC-112)的浆料粒度进行了分析。其中一种仪器是PSS粒度仪公司的Nicomp370,用于监测平均粒径为100nm左右的浆料...

  • 2021
    速溶咖啡的分散性,溶解性以及分离过程的快速表征

    速溶咖啡的分散性,溶解性以及分离过程的快速表征速溶饮料广义是指便于携带、食用方便的饮料。常以咖啡、可可、牛奶等为原料,经浸提、过滤、浓缩、真空干燥等工序制成。能保持原料的色、香、味,冲饮时能迅速溶解于热水或冰水中。常见产品有速溶咖啡,奶粉,...

  • 2021
    PSS单颗粒光学传感技术在AccuSizer 780系列产品上成功应用

    单颗粒光学传感(SPOS)技术,成功将光消减(也称之为“光阻法”)和光散射两种物理作用进行了结合,利用光消减可获得较大的动态粒径范围,通过光散射可增加对小粒子的灵敏度,因此,SPOS技术具有非常高的精度和分辨率。AccuSizer780A7...

  • 2021
    CMP 研磨液中颗粒的评价技术

    CMP研磨液中颗粒的评价技术GeanneVasiloulos,ZhenwuLin,KennethAdrian在化学机械抛光过程中,各种研磨液用于晶圆平坦化处理。这些研磨液中颗粒浓度可达>1015颗/ml。除了用于抛光的颗粒外,研磨液中还含有...

  • 2021
    不溶性微粒检测方法之光阻法介绍

    不溶性微粒系指可流动的、随机存在于静脉注射用药物中不溶于水的微小颗粒。不溶性微粒是外来物质,粒径一般在2-50μm之间,肉眼难以看见,主要包括钙、硅等元机微粒,或是炭黑、纤维、细菌、霉菌、芽泡和结晶体、玻稍屑,以及塑料微粒、橡胶微粒等,是由...

  • 2021
    Zeta电位怎么测试?有哪些方法?

    Zeta电位是纳米材料的一种重要表征参数。很多微纳米产品都需要表征其稳定性,粒度大小、zeta电位、ph值、温度、产品配方等会影响样品稳定性,而zeta电位是样品稳定性比较直观的一个参数。现代仪器可以通过简便的手段快速地测得。常见的测试Ze...

  • 2021
    典型的高压微射流纳米均质机应用领域有哪些?

    均质机的作用主要有:提高产品的均匀度和稳定性;增加保质期,减少反应时间从而节省催化剂或添加剂,改变产品的稠度改善产品的口味和色泽等等,均质机为无数工艺流程的革新以及各种新产品的开发应用提供了简便而卓有成效的途径。典型的高压微射流纳米均质机应...

  • 2021
    AN-754 ISO4406污染度等级

    AN-754ISO4406污染度等级应用指南必须监控各种油(液压油,变速箱和其他流体动力系统)中的颗粒污染,以确保其正常工作并避免损坏有价值的设备。通常使用遵循ISO4406标准报告格式的液体颗粒计数器(例如PSSAccuSizer)进行这...