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SPOS单颗粒技术
发布时间:2015-06-10 点击次数:1266次

     动态光散射是一种按标准时间来测量技术,专门针对分散体系中纳米粒子的粒径。光学测量技术是测量粒子粒径在10nm以下*可靠的测量技术。

化学机械抛光液(CMP slurry)的制取和使用过程中需要测试粒度分布和大颗粒的含量。使用传统的粒度仪以及激光衍射仪器不可能完全检测和定量分析CMP的好坏,其尾端大粒子会导致研磨液划伤晶片,使得生产芯片企业出现质量上不过关的难题。在工业生产中有着广泛的应用。有机杀虫剂中添加高岭土后,水果表面可形成一层高岭土保护膜阻止害虫侵害;高岭土可以作为橡胶的填充剂,橡胶中添加高岭土可以增加橡胶的强度、柔韧性以及耐磨性。但如果高岭土中含有大量超大颗粒,将会严重损害产品的性能。关键词:高岭土, SPOS

    过滤在化学机械抛光液(CMP slurry)的制取和使用过程中是必不可少的。使用传统的动态光散射粒度仪不可能完全检测和定量分析过滤效果的好坏,即不能检测出导致研磨过程中划伤晶片的研磨液中大颗粒是否被滤除。有时过滤器的实际使用寿命会由于某种因素的影响比预期的使用寿命要缩短,而过滤器的失效会导致研磨液中的大颗粒划伤晶片。如果没有一种方法检测/监测研磨液过滤前后的尾部大颗粒,生产厂家就只能通过频繁更换过滤器的方法来保证产品质量的万无一失,这样做既浪费人力又浪费物力。


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